Clean room

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
Skocz do: nawigacji, wyszukiwania
Ujednoznacznienie Ten artykuł dotyczy pomieszczenia. Zobacz też: tworzenie oprogramowania w technologii "cleanroom".
Pomieszczenie clean room w Glenn Research Center (NASA)
Wnętrze pomieszczenia clean room w firmie Seagate Technology
Zewnętrzny widok pomieszczenia clean room (Cardiff University)
Wejście do clean room bezpośrednio z przedsionka bez śluzy powietrznej (Cardiff University)
Cleanroom do produkcji mikroelektroniki (w budowie)
Typowe nakycie głowy w pomieszczeniu typu clean room

Pomieszczenie czyste (z ang. cleanroom lub clean room) - jest to rodzaj pomieszczenia o kontrolowanych parametrach środowiskowych, w szczególności zanieczyszczeń typu: pył, kurz, bakterie, opary chemiczne, itp.

Pomieszczenia takie są używane do badań naukowych, jak również do produkcji z wykorzystaniem materiałów o wysokiej czystości (np. procesory komputerowe). W zależności od wymaganej czystości atmosfery pomieszczenia clean room dzielone są na klasy, w których definiuje się ilość i rozmiar zanieczyszczeń na metr sześcienny (ewentualnie stopę sześcienną) atmosfery.

Opis[edytuj | edytuj kod]

Pomieszczenia clean room mogą być bardzo duże, znacznie większe od tytułowego pokoju - w niektórych przypadkach może to być cała hala produkcyjna lub nawet większość fabryki (o powierzchni podłogi rzędu tysięcy metrów kwadratowych). Pomieszczenia takie są powszechnie używane podczas produkcji precyzyjnych elementów półprzewodnikowych, biotechnologii oraz innych dziedzin, w których nawet drobne zanieczyszczenia są krytycznym parametrem technologii.

Powietrze jest tłoczone do wnętrza clean room poprzez specjalny układ filtrów eliminujących kolejne frakcje zanieczyszczeń. Całe powietrze wewnątrz pomieszczenia jest ciągle filtrowane przez zestaw filtrów HEPA w celu usuwania zanieczyszczeń powstałych wewnątrz. Pracownicy wchodzący i opuszczający pomieszczenie muszą zrobić to przez śluzę powietrzną (czasem wyposażoną w prysznic powietrzny. Pracownicy wewnątrz clean room muszą przez cały czas być ubrani w specjalne kombinezony ochronne, maski na twarz, obuwie, itd. (zobacz zdjęcie obok). W mniej kosztownych rozwiązaniach nie stosuje się śluzy powietrznej - wejście następuje bezpośrednio z przedsionka, w którym zakłada się ubiór ochronny.

Urządzenia wewnątrz clean room muszą być specjalnie zaprojektowane tak, aby nie generowały dodatkowych zanieczyszczeń. Popularne materiały takie jak: papier, ołówki, tkaniny naturalne, itd. są zazwyczaj zabronione (z uwagi na ich łamliwość i przyczynianie się do powstawania kurzu).

Pomieszczenia niższej klasy zazwyczaj nie są sterylne (tzn. wolne od niekontrolowanych bakterii), a większa uwaga poświęcona jest mechanicznym cząstkom lotnym zawartym w powietrzu. Ich zawartość jest kontrolowana za pomocą licznika cząstek.

W niektórych pomieszczeniach typu clean room utrzymywane jest nieznacznie podwyższone ciśnienie atmosferyczne. Pomaga to bowiem w zapobieganiu dostawania się zanieczyszczeń z zewnątrz - w przypadku niewielkich nieszczelności powietrze będzie tylko wypływać na zewnątrz.

Często powietrze jest dodatkowo osuszane, co stwarza dodatkowe zagrożenie ładunkami elektrostatycznymi. W celu zapobieżenia ewentualnym wyładowaniom stosuje się odpowiednią odzież ochronną oraz dokładnie określone zasady pracy.

Żółte oświetlenie wewnątrz clean room (patrz zdjęcia) jest stosowane z uwagi na fakt, że jednym z procesów wykonywanych wewnątrz takiego pomieszczania jest litografia. Podczas fotolitografii używa się fotorezystów czułych na promienie ultrafioletowe. Podobnie jak w ciemni fotograficznej stosowanie oświetlenia o większej długości fali zapobiega niepożądanemu naświetleniu materiałów światłoczułych.

Rozkłady strumieni powietrza dla różnych typów "czystych pokoi"[edytuj | edytuj kod]

Rozkład strumieni powietrza dla "czystego pokoju" z przepływem turbulentnym
Rozkład strumieni powietrza dla "czystego pokoju" z przepływem laminarnym

Klasyfikacja[edytuj | edytuj kod]

Na podstawie Rockwell Automation:

W tabelach norm dotyczących clean room podano maksymalne wartości liczby dopuszczalnych cząstek (zanieczyszczeń) na stopę sześcienną (dla US FED) oraz na metr sześcienny (dla ISO), dla każdej klasy.

Norma US FED STD 209E[edytuj | edytuj kod]

cząstki/stopa sześcienna
Klasa 0,1 µm 0,2 µm 0,3 µm 0,5 µm 1 µm 5 µm
1 35 7 3 1    
10 350 75 30 10 1  
100 3 500 750 300 100 10 1
1 000       1 000 100 10
10 000       10 000 1 000 100
100 000       100 000 10 000 1 000

Uwaga: Norma US FED STD 209E została unieważniona 29 listopada 2001. [1]

Norma ISO 14644-1[edytuj | edytuj kod]

cząstki/metr sześcienny
Klasa 0,1 µm 0,2 µm 0,3 µm 0,5 µm 1 µm 5 µm
ISO 1 10 2        
ISO 2 100 24 10 4    
ISO 3 1 000 237 102 35 8  
ISO 4 10 000 2 370 1 020 352 83  
ISO 5 100 000 23 700 10 200 3 520 832 29
ISO 6 1 000 000 237 000 102 000 35 200 8 320 293
ISO 7       352 000 83 200 2 930
ISO 8       3 520 000 832 000 29 300
ISO 9       35 200 000 8 320 000 293 000

Porównanie[edytuj | edytuj kod]

ISO 14644-1 FED STD 209E
ISO 3 1
ISO 4 10
ISO 5 100
ISO 6 1 000
ISO 7 10 000
ISO 8 100 000

Linki zewnętrzne[edytuj | edytuj kod]

WiktionaryPl nodesc.svg
Zobacz hasło cleanroom w Wikisłowniku