Częstość plazmowa

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
Skocz do: nawigacja, szukaj

Częstość plazmowaczęstość własna oscylacji położenia swobodnych elektronów (w znaczeniu − mogących swobodnie przepływać). Jest to istotny parametr, który opisuje właściwości elektryczne plazmy, choć może dotyczyć również elektronów walencyjnych wewnątrz metalu. Wyraża się następującym wzorem[1]:

\omega_0 = e \sqrt{\frac{n_e}{\varepsilon_0 m_e}}

gdzie:

eładunek elementarny,
nekoncentracja elektronów,
me − masa elektronu,
ε0przenikalność elektryczna próżni.

W przypadku metali, z uwagi na oddziaływanie jonów sieci metalu, zamiast masy elektronu występuje masa zredukowana.

Częstość plazmowa ośrodka określa jego przezroczystość dla promieniowania elektromagnetycznego. Gdy częstość fali elektromagnetycznej jest mniejsza od częstotliwości plazmowej, wówczas względna przenikalność elektryczna ośrodka staje się ujemna − fala nie może się w nim rozchodzić i zostaje całkowicie odbita, zgodnie ze wzorem

\kappa = 1-\frac{\omega_0^2}{\omega^2}

gdzie ω − częstość fali elektromagnetycznej.

Dla fal elektromagnetycznych o większej częstości ośrodek może stać się przezroczysty.

Zobacz też[edytuj | edytuj kod]

Przypisy

  1. Encyklopedia fizyki współczesnej. Warszawa: Państwowe Wydawnictwo Naukowe, 1983, s. 515 i 562. ISBN 83-7350-011-1.