HSMG
HSMG (ang. High Strength Metallurgical Graphene) – grafen polikrystaliczny, wytwarzany na podłożu metalicznej fazy ciekłej[1].
Ważną cechą tego procesu, w stosunku do innych metod wytwarzania na stałych substratach, jest uzyskanie nisko zdefektowanych struktur. HSMG jest formowany na idealnie gładkiej powierzchni cieczy [2]. Podczas formowania grafenu z fazy gazowej na podłożach stałych, tworzenie niezdefektowanej warstwy grafenu utrudniają nierówności i defekty powierzchniowe podłoża. Formowanie ciągłych mono warstw grafenu na metalicznej cieczy ma również tę zaletę, że pozwala na samoorganizację powstających ziaren grafenu, wynikającą z możliwości obrotu płatków grafenowych przed utworzeniem warstwy ciągłej[2]. Dzięki temu kąt dezorientacji granic ziaren jest równy lub bliski zero. Tak uformowany, wielkopowierzchniowy grafen, charakteryzuje się wysoką wytrzymałością mechaniczną, zbliżoną do wytrzymałości teoretycznej. Metoda ta została opracowana i opatentowana przez zespół naukowców z Instytutu Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej, pod kierunkiem prof. inż. Piotra Kuli[3].
Przypisy[edytuj | edytuj kod]
- ↑ P. Kula, R. Pietrasik, K. Dybowski, R. Atraszkiewicz, L. Kaczmarek, D. Kazimierski, P. Niedzielski, W. Modrzyk: The growth of a polycrystalline graphene from a liquid phase. Nano Science and Technology Institute. [dostęp 2015-06-26]. (ang.).
- ↑ a b Piotr Przybyslawski - Advanced Graphene Products: HSMG - General Information. Advanced Graphene Products. [dostęp 2015-07-01]. [zarchiwizowane z tego adresu (2015-07-01)]. (ang.).
- ↑ Naukowcy z PŁ produkują grafen o większej wytrzymałości | Aktualności o polskiej nauce, badaniach, wydarzeniach, polskich uczelniach i instytutach badawczych. naukawpolsce.pap.pl. [dostęp 2015-07-01].