Epitaksja: Różnice pomiędzy wersjami

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
[wersja nieprzejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
dodanie rodzajów epitaksji
Thijs!bot (dyskusja | edycje)
m robot dodaje: cs:Epitaxe
Linia 23: Linia 23:


[[bg:Епитаксия]]
[[bg:Епитаксия]]
[[cs:Epitaxe]]
[[de:Epitaxie]]
[[de:Epitaxie]]
[[en:Epitaxy]]
[[en:Epitaxy]]

Wersja z 17:29, 7 cze 2008

Epitaksja (gr. epi + taxis = na uporządkowanym) – technika półprzewodnikowa wzrostu nowych warstw monokryształu na istniejącym podłożu krystalicznym, która powiela układ istniejącej sieci krystalicznej podłoża. Opracował ją w 1957 roku N. N. Sheftal z zespołem. Epitaksja pozwala kontrolować domieszkowanie warstwy epitaksjalnej, zarówno typu p jak i n, i jest to niezależne od domieszkowania podłoża.

Odmianą epitaksji jest epitaksja z wiązek molekularnych - technika ta pozwala na nanoszenie warstw krystalicznych o grubości pojedynczej warstwy atomowej. Technika ta jest wykorzystywana w produkcji kropek kwantowych oraz tzw. cienkich warstw.

Zjawisko epitaksjalnej krystalizacji lodu na jodkach metali jest używane do rozpraszania mgły i wywoływania opadów.

Rodzaje epitaksji

  • MBE (Molecular Beam Epitaxy) epitaksja z wiązek molekularnych
  • MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) epitaksja ze związków metaloorganicznych]]
  • LPE (Liquid Phase Epitaxy) epitaksja z fazy ciekłej]]
  • VPE (Vapour Phase Epitaxy) epitaksja z fazy gazowej]]
  • CBE (Chemical Beam Epitaxy) epitaksja z wiązki chemicznej]]

Zobacz też