Epitaksja: Różnice pomiędzy wersjami

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
[wersja przejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
Luckas-bot (dyskusja | edycje)
Luckas-bot (dyskusja | edycje)
m [r2.5.2] robot dodaje: nl:Epitaxie
Linia 31: Linia 31:
[[fr:Épitaxie]]
[[fr:Épitaxie]]
[[it:Epitassia]]
[[it:Epitassia]]
[[nl:Epitaxie]]
[[ja:エピタキシャル成長]]
[[ja:エピタキシャル成長]]
[[no:Epitaksi]]
[[no:Epitaksi]]

Wersja z 16:22, 24 lis 2010

Epitaksja (gr. epi + taxis = na uporządkowanym) – technika półprzewodnikowa wzrostu nowych warstw monokryształu na istniejącym podłożu krystalicznym, która powiela układ istniejącej sieci krystalicznej podłoża. Opracował ją w 1957 roku N. N. Sheftal z zespołem. Epitaksja pozwala kontrolować domieszkowanie warstwy epitaksjalnej, zarówno typu p jak i n, i jest to niezależne od domieszkowania podłoża.

Odmianą epitaksji jest epitaksja z wiązek molekularnych - technika ta pozwala na nanoszenie warstw krystalicznych o grubości pojedynczej warstwy atomowej. Technika ta jest wykorzystywana w produkcji kropek kwantowych oraz tzw. cienkich warstw.

Zjawisko epitaksjalnej krystalizacji lodu na jodkach metali jest używane do rozpraszania mgły i wywoływania opadów.

Rodzaje epitaksji

  • MBE (Molecular Beam Epitaxy) epitaksja z wiązek molekularnych
  • MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) epitaksja ze związków metaloorganicznych
  • LPE (Liquid Phase Epitaxy) epitaksja z fazy ciekłej
  • VPE (Vapour Phase Epitaxy) epitaksja z fazy gazowej
  • CBE (Chemical Beam Epitaxy) epitaksja z wiązki chemicznej

Zobacz też