Epitaksja: Różnice pomiędzy wersjami

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
[wersja przejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
Luckas-bot (dyskusja | edycje)
m r2.7.1) (robot dodaje: ca:Epitàxia
ChuispastonBot (dyskusja | edycje)
m r2.7.1) (robot dodaje: zh:磊晶
Linia 38: Linia 38:
[[ru:Эпитаксия]]
[[ru:Эпитаксия]]
[[uk:Епітаксія (технологія)]]
[[uk:Епітаксія (технологія)]]
[[zh:磊晶]]

Wersja z 10:48, 6 kwi 2011

Epitaksja (gr. epi + taxis = na uporządkowanym) – technika półprzewodnikowa wzrostu nowych warstw monokryształu na istniejącym podłożu krystalicznym, która powiela układ istniejącej sieci krystalicznej podłoża. Opracował ją w 1957 roku N. N. Sheftal z zespołem. Epitaksja pozwala kontrolować domieszkowanie warstwy epitaksjalnej, zarówno typu p jak i n, i jest to niezależne od domieszkowania podłoża.

Odmianą epitaksji jest epitaksja z wiązek molekularnych - technika ta pozwala na nanoszenie warstw krystalicznych o grubości pojedynczej warstwy atomowej. Technika ta jest wykorzystywana w produkcji kropek kwantowych oraz tzw. cienkich warstw.

Zjawisko epitaksjalnej krystalizacji lodu na jodkach metali jest używane do rozpraszania mgły i wywoływania opadów.

Rodzaje epitaksji

  • MBE (Molecular Beam Epitaxy) epitaksja z wiązek molekularnych
  • MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) epitaksja ze związków metaloorganicznych
  • LPE (Liquid Phase Epitaxy) epitaksja z fazy ciekłej
  • VPE (Vapour Phase Epitaxy) epitaksja z fazy gazowej
  • CBE (Chemical Beam Epitaxy) epitaksja z wiązki chemicznej

Zobacz też