Fotomaska

Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary blokujące światło pokryte chromem, reszta to okna przepuszczające światło. Żółte oświetlenie widoczne na zdjęciu jest typowe dla pomieszczeń litografii.

Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii.

Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w fotorezyście. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie stosuje się głównie fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe (fotorezysty) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:

• Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.

• 
  Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS)
• 
  Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej.

• Elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość).

Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście przez, które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem.