Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami
[wersja nieprzejrzana] | [wersja nieprzejrzana] |
Nie podano opisu zmian |
Nie podano opisu zmian |
||
Linia 2: | Linia 2: | ||
<gallery> |
<gallery> |
||
Plik:Semiconductor photomask.jpg|Fotomaska chromowa. |
Plik:Semiconductor photomask.jpg|Fotomaska chromowa. |
||
Plik:Chromium photomask (details).JPG|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary |
Plik:Chromium photomask (details).JPG|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło. |
||
</gallery> |
</gallery> |
||
Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie stosuje się głównie |
Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie stosuje się głównie fotomaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą: |
||
* Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość. |
* Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość. |
||
<gallery> |
<gallery> |
Wersja z 14:19, 25 lis 2014
Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii.
-
Fotomaska chromowa.
-
Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło.
Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w fotorezyście. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie stosuje się głównie fotomaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe (fotorezysty) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:
- Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.
-
Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS)
-
Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej.
- Elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość).
Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście przez, które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem.