Epitaksja: Różnice pomiędzy wersjami

Z Wikipedii, wolnej encyklopedii
[wersja przejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
EmausBot (dyskusja | edycje)
m r2.7.2+) (Robot poprawił zh:外延 (晶体)
DarafshBot (dyskusja | edycje)
m r2.7.1) (Robot poprawił fa:برآرایی
Linia 28: Linia 28:
[[en:Epitaxy]]
[[en:Epitaxy]]
[[es:Epitaxia]]
[[es:Epitaxia]]
[[fa:اپیتکسی]]
[[fa:برآرایی]]
[[fr:Épitaxie]]
[[fr:Épitaxie]]
[[it:Epitassia]]
[[it:Epitassia]]

Wersja z 01:46, 28 sty 2013

Epitaksja (gr. epi + taxis = na uporządkowanym) – technika półprzewodnikowa wzrostu nowych warstw monokryształu na istniejącym podłożu krystalicznym, która powiela układ istniejącej sieci krystalicznej podłoża. Opracował ją w 1957 roku N. N. Sheftal z zespołem. Epitaksja pozwala kontrolować domieszkowanie warstwy epitaksjalnej, zarówno typu p jak i n, i jest to niezależne od domieszkowania podłoża.

Odmianą epitaksji jest epitaksja z wiązek molekularnych – technika ta pozwala na nanoszenie warstw krystalicznych o grubości pojedynczej warstwy atomowej. Technika ta jest wykorzystywana w produkcji kropek kwantowych oraz tzw. cienkich warstw.

Zjawisko epitaksjalnej krystalizacji lodu na jodkach metali jest używane do rozpraszania mgły i wywoływania opadów.

Rodzaje epitaksji

  • MBE (Molecular Beam Epitaxy) epitaksja z wiązek molekularnych
  • MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) epitaksja ze związków metaloorganicznych
  • LPE (Liquid Phase Epitaxy) epitaksja z fazy ciekłej
  • VPE (Vapour Phase Epitaxy) epitaksja z fazy gazowej
  • CBE (Chemical Beam Epitaxy) epitaksja z wiązki chemicznej

Zobacz też