Wkład użytkownika Przemop100

26 kwi 2022

• 11:3711:37, 26 kwi 2022 różn. hist. +1219‎ N Wikipedysta:Przemop100/brudnopis ‎ Nowa strona: Zastosowania Warstwy tlenków o wysokiej stałej dielektrycznej Technika ALD jest wykorzystywana do produkcji cienkich tlenkowych warstw dielektrycznych o wysokiej stałej dielektrycznej w tranzystorach. Wynika to z faktu, że dalsza redukcja grubości tradycyjnie używanego tlenku krzemu [] w procesie fabrykacji procesorów powoduje powstanie wysokiego prądu tunelowania, obniżającego jakość działania struktur logicznych. Głowice dysków magn… ostatnia Znacznik: VisualEditor

25 kwi 2022

• 12:04, 25 kwi 2022 (różn. | hist.) . . +202‎ . . N prośba o przejrzenie i akceptację artykułu na Pomoc:Pytania nowicjuszy

11 kwi 2022

• 17:1417:14, 11 kwi 2022 różn. hist. −34‎ m Osadzanie warstw atomowych ‎ usunięto szablon "dopracować" po dodani artykułu do odpowiedniej kategorii
• 17:1317:13, 11 kwi 2022 różn. hist. +38‎ Osadzanie warstw atomowych ‎ dodano artykuł do kategorii "Inżynieria Powierzchni" Znacznik: VisualEditor

10 kwi 2022

• 17:3517:35, 10 kwi 2022 różn. hist. +4286‎ N Osadzanie warstw atomowych ‎ pierwsza wersja artykułu o Atomic Layer Deposition (ALD) w wersji polskiej (Osadzanie Warstw Atomowych) Znacznik: Brak kategorii
• 17:3117:31, 10 kwi 2022 różn. hist. +9‎ Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ →‎Początki historyczne: dodany XX wiek w celu jednoznacznego wskazania daty historycznej ostatnia Znacznik: VisualEditor: przełączono
• 17:3017:30, 10 kwi 2022 różn. hist. +56‎ Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ zmienione formatowanie cytacji na prawidłowe Znacznik: VisualEditor: przełączono
• 17:2217:22, 10 kwi 2022 różn. hist. +228‎ Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ dodana sekcja "zobacz też" oraz link w sekcji "linki zewnętrzne"
• 17:1017:10, 10 kwi 2022 różn. hist. −1‎ m Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ dodany napis "w edycji"
• 17:0817:08, 10 kwi 2022 różn. hist. +604‎ Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ →‎Cechy
• 16:4716:47, 10 kwi 2022 różn. hist. +246‎ N Wikipedysta:Przemop100 ‎ dodałem krótki opis swoich zainteresowań ostatnia
• 16:4516:45, 10 kwi 2022 różn. hist. +2464‎ Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ →‎Opis zjawiska
• 14:1114:11, 10 kwi 2022 różn. hist. +941‎ N Wikipedysta:Przemop100/Osadzanie warstw atomowych ‎ Nowa strona: '''Osadzanie warstw atomowych''' (ang. Atomic Layer Deposition, ALD) - metoda chemiczna służąca do uzyskiwania cienkich warstw o grubościach atomowych. ALD jest zmodyfikowaną wersją techniki CVD, w której oba wprowadzane prekursory nie mają ze sobą kontaktu w fazie gazowej, a jedynie na osadzanej powierzchni. == Opis zjawiska == Układ eksperymentalny wykorzystywany w technice ALD j…